石墨烯制備系統（CVD）

石墨烯制備系統（CVD）主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料，有一個水平石英管式爐。一個催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里,甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入，在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。
快速冷卻對于形成高質量的石墨烯薄膜非常重要，快速冷卻可以抑制碳過量的沉積在催化劑金屬箔上 (如銅或鎳箔)；系統配備了快速冷卻系統。管式爐向一側滑動30mm到反應爐，加熱的爐可以遠離樣品，從而快速冷卻樣品。通過非常簡單的方式達到快速冷卻的效果。

石墨烯制備系統（CVD）

主要特點：
1）快速加熱和制冷功能；
2）管式爐滑動裝置，可使得樣品快速加熱和冷卻；
3）特殊設計的測溫傳感器，可直接監測樣品溫度；
4）支持生長其他各種碳納米材料（碳納米管、碳納米線等）；

技術指標：

1）石英管尺寸：OD50×ID46×L1200mm

2）加熱區尺寸：φ50×L260mm

3）操作溫度：up to 1200 ℃

4）正常使用溫度范圍：400-1100 ℃

5）程序化PID溫度控制

6）三路氣體源MFC控制 (hydrocarbon, H2, Ar)

7）旋轉真空泵，抽速20L/min

8）熱電偶實時監測樣品溫度

9）快速加熱和制冷系統

10）手動管式爐滑動系統，滑動距離300mm

11）設備尺寸：W1400×H1000×D500mm